PHモニター P-2 熱帯魚飼育等の水質検査に pH計  pH測定器 pHメーター ペーハー測定器 水質測定器  関東当日便 水質管理・調整
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02342186-6613-nrN
9,851円 11,589円
PHモニター P-2 熱帯魚飼育等の水質検査に pH計 pH測定器 pHメーター ペーハー測定器 水質測定器  関東当日便

メーカー:AIネット株式会社

品番:NMM0008Z

24時間いつでも測定!

PHモニター P-2
対象 淡水専用
特長 ●24時間いつでも測定できるpH測定機です。
●pH校正液(7.0、4.0)がセットになり、より正確なpH値を測定することができます。
●小型で軽量になりさらに便利になりました。
●ボタン操作で自動校正ができ、操作が簡単でラクラクです。
セット内容 本体、pHセンサー、校正液(7.0、4.0)、ACアダプター、固定用キスゴム、取扱説明書
仕様 表示部:LCD液晶ディスプレイ(31×31mm)
測定可能範囲:0~14pH×0.01pH
最小目盛:0.01pH
精度:±0.07(pH5-9) 範囲外は0.2pH
測定時間:開始は約1秒、測定安定数値表示は水質によって異なります。
測定可能温度:0~50℃(異常な水温差は破損のおそれがあります。)
湿度:80%以下で使用してください。
校正:1点または2点校正 ボタン操作で自動校正
電源:DC9V ACアダプター
ご注意 ※本品は観賞魚用品です。目的以外の用途では使用しないでください。
※改造、分解は絶対にしないでください。
※本品は精密機械ですので、落下などのショックを与えないでください。
※本体に海水がかかった場合は、使用を中止してください。





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PCB廃棄物処理事業

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一方、溶けにくく、沸点が高い、熱で分解しにくい、不燃性、電気絶縁性が高いなど、化学的にも安定な性質を有することから、電気機器の絶縁油、熱交換器の熱媒体、ノンカーボン紙などグローテック Reef Clear RC 1000ml 関東当日便i Play (アイプレイ)乳幼児用 再利用可能 吸収力抜群の水泳用オムツ(2枚セット) US サイズ: 3T カラー: ホワイト

PCBの毒性について

脂肪に溶けやすいという性質から、慢性的な摂取により体内に徐々に蓄積し、様々な症状を引き起こすことが報告されています。

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ダイオキシン類の主な発生源は、ごみ焼却などの燃焼によって発生することが一般に知られていますが、その他製鋼用電気炉、たばこの煙、自動車の排気ガスなど様々な発生源があり、いずれも意図的に製造したものではなく、非意図的に生成されたといえます。 一方、コプラナーPCBが環境中に存在している要因としては、ごみ焼却によって発生することが判明しているほか、トランス、コンデンサ等の紛失・不明による機器内に含有していたPCBの流出が指摘されています。

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ダイオキシン類は、下図のように、基本的には炭素で構成されるベンゼン環(下図の六角形の部分)が2 つ、酸素(図の「O」)で結合したりして、それに塩素が付いた構造をしています。下図の「1」~「9」及び「2´」~「6´」の位置には塩素又は水素が付いていますが、塩素の数や付く位置によっても形が変わるので、PCDD は75 種類、PCDF は135 種類、コプラナーPCB は十数種類の仲間があります(これらのうち毒性があるとみなされているのは29 種類です。)
 
 

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ダイオキシン類については、大気、水質ともに、ダイオキシン類対策特別措置法の中で、現在とりうる限りの厳しい規制基準が定められています。

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Dean & Tyler La Main Padding Dog Leash with Stainless Steel Ring on Handle2以上、焼却能力が200kg/h以上)及び製鋼用電気炉 については、上表の新設施設の排出基準が適用されている。

2)排水 特定施設及び排出基準値

特定施設種類 基準値
・硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設
・カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設
・硫酸カリウムの製造の用に供する廃ガス洗浄施設
・アルミナ繊維の製造の用に供する廃ガス洗浄施設
・担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設
・塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設
・カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設、廃ガス洗浄施設
窯変白萩水指
・4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供するろ過施設、乾燥施設及び廃ガス洗浄施設
・2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供するろ過施設及び廃ガス洗浄施設
・ジオキサジンバイオレットの製造の用に供するニトロ化誘導体分離施設、還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設、還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設及び熱風乾燥施設
・アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設
・亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設
・担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供するろ過施設、精製施設及び廃ガス洗浄施設
・廃棄物焼却炉(火床面積0.5m2以上又は焼却能力50kg/h以上)に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設、汚水又は廃液を排出する灰の貯留施設
廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設
・フロン類(CFC及びHCFC)の破壊(プラズマ反応法、廃棄物混焼法、液中燃焼法及び過熱蒸気反応法によるものに限る。)の用に供するプラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設
・水質基準対象施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設
・水質基準対象施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設
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※廃棄物の最終処分場の放流水に関する基準は、廃棄物の処理及び清掃に関する法律に基づく維持管理基準を定める命令により10pg-TEQ/L。
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